沧海扬帆 第129节

　　徐云给黄春燕写信，也只是谈学习谈生活谈理想，丝毫不敢提及敏感内容。现在让他掐着高凡的脖子让对方言归正传，他做不到啊。

　　“我们目前搞的东西，没啥特别的，也就是填补国内空白而已。关于技术进展情况，前几次开例会的时候，我们室主任都介绍过了，你不也参加会议了吗？”徐云有些无所谓地答道。

　　枫林研究所七区都是搞化工技术的，各个实验室之间的协作不少。每周的例会是全区的技术人员都要参加的，在例会上会互相通报技术进展以及遇到的困难，所以徐云觉得，高凡对于自己实验室正在做的东西，应当是有所了解的。

　　徐云所在的08实验室目前正在研究的是光致抗蚀剂，也就是俗称的光刻胶。高凡从到研究所的第一天就从云中明那里知道了这件事，并且暗暗地存下了一个念头。

　　中国的集成电路研究起步很早，差不多是美国发明出集成电路技术的同时，中国就盯上了这个方向，并且开始积极追赶。

　　从60年代至70年代末，全球集成电路技术经历了小规模、中规模、大规模、超大规模等多个技术阶段，中国亦步亦趋，每个阶段都没有错过。

　　然而，集成电路并不是一项孤立的技术，集成电路的制造严重依赖于整个工业体系的水平，尤其是材料技术和精密加工技术的水平。

　　在中小规模集成电路阶段，工业水平的影响还不太明显。到了大规模、超大规模集成电路阶段，没有强大的工业基础作为支撑，集成电路的发展就举步维艰了。

　　在后世，即便是美国这样的工业强国，也无力独立建成一套完整的集成电路工业体系，而是必须依赖整个西方的力量，例如荷兰的光刻机、德国光学镜片以及日本的光刻胶。

　　在美国扬言要全面封杀中国的半导体产业之时，曾有一些精神太监们洋洋自得地声称：光刻机的制造需要20多个国家的数百家工厂，中国如果要独立研发出光刻机，难度不亚于重建一套人类文明。

　　不过，到了那个时候，中国一个国家的体量，无论是工业人口数，还是工业增加值，已经达到了太监们口中那20多个国家的总和，也就是说，中国已经以一己之力，建成了一套人类文明。

　　当然，这就是后话了。

　　上世纪60至70年代，中国还是一个工业基础薄弱的国家，而且还遭受着东西方两大阵营的联合封锁。别说集成电路这种高科技产业，就连钢铁、化工等基础产业，与国外相比都有两代以上的差距。

　　在当时，中国虽然已经掌握了大规模集成电路的制造技术，甚至还借助于引进的国外二手设备生产出了超大规模集成电路，但产品质量差、成本高，完全没有市场竞争力。

　　文献记载，80年代初，国产的某种型号集成电路芯片价格为每片8元人民币，而在美国的同型号芯片价格仅相当于0.24元人民币。

　　80年代初的中国，百业待举，而国家却非常穷。相比钢铁、化工、电力、交通运输等产业，半导体这种只有富裕国家才能玩得起的产业是排不上议事日程的。

　　在这一时期，国家的半导体产业发展策略就是引进生产设备，实现部分集成电路的国产化，其中尤其以电视机芯片的国产化最为突出。

　　不过，对“卡脖子”的恐惧是深深刻在中国人基因之中的，在大批引进设备的同时，中国自己并没有完全放弃对半导体设备和相关材料的研究。

　　以后世网上炒得沸沸扬扬的光刻机为例：

　　1985年，机电部45所对标美国的4800DSW研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

　　1990年，中科院光电所研制出IOE1010G直接分步重复投影光刻机，主要技术指标接近美国GCA8000型的水平，而GCA8000是美国在80年代中期开发出来的。

　　此后的八五、九五、十五期间，也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面，虽然达不到国际一流水平，但也绝对没有被国外远远地甩开。

　　光刻机只是全部半导体设备中的一个例子，半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说，中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战，任何时候都要确保自己有一战之力。

第300章 摩尔定律你听说过没有

　　08实验室正在研制的光刻胶，也是国家半导体后备技术的一部分。

　　在这个时期，光刻胶并不属于国外向中国禁售的产品。国际上生产光刻胶的厂商众多，国内的半导体企业能够轻而易举地买到各种光刻胶，而且价格也并不昂贵。

　　然而，国家却依然向枫林研究所下达了研制光刻胶的任务，其目的就是为了万一遭遇到国外的封锁，国内自己也能够提供出合用的光刻胶，确保少数关系国家安全的集成电路的生产不受影响。

　　所有的人都知道，国内自己研制的光刻胶生产成本会远远高于进口产品，质量则是远远不及，在市场上是绝对没有竞争力的。

　　但是，当事关国家生死存亡的时候，这些问题还有必要考虑吗？

　　枫林研究所研究的许多技术，都具有这样的特征。相比西方国家而言，这些技术平均要落后一至两代，即使送给别人，人家也不屑一顾。

　　可这并不意味着枫林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于让对手不清楚我们的研究进度到了哪一步，无论对方高估或者低估了我们的水平，都会在战场博弈或者经济博弈中犯下一些或大或小的错误，而这些错误，可能就会成为我们的机会。

　　这是弱者的一种生存策略。

　　高凡对于国家的整体策略并不十分了解，但在他从云中明那里听到“光致抗蚀剂”这个词的时候，他就产生出了一个念头：

　　或许，自己能够做一些事情。

　　“徐师兄，我听毕主任说，你们正在研究的是G线光刻胶。对于i线以及KrF光刻胶，你们有没有涉及？”高凡问道。

　　他说的毕主任，叫毕连生，是08实验室的室主任，一位不苟言笑的中年知识分子。

　　光刻技术，按照使用的光源不同，可以分为许多类，或者称为不同代际也可以。

　　上世纪60年代，光刻技术刚刚出现的时候，使用的是普通的可见光光源，那时候的光刻机其实就是拿一个大灯泡照射掩膜板，和照相馆里冲洗照片没啥区别。

　　80年代，光源进化为采用高压放电汞灯产生的436纳米和365纳米光源，前者称为G线光源，后者称为i线光源，都属于近紫外光源。

　　90年代之后，出现了使用准分子激光器的248纳米、193纳米和157纳米光源，分别称为KrF、ArF和F2光源，属于深紫外光源。

　　再至于被誉为“皇冠上的明珠”的EUV光刻机，使用的是13.3纳米的极紫外光源，它的出现时间已经要算到2010年之后了。

　　时下，G线光源还是集成电路制造中使用的主流光源。i线光源光刻机已经问世，但还没有得到大规模推广。至于KrF，实验室概念已经提出来了，真正投入使用，还得是十年后的事情。

　　光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。

　　光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。

　　随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。

　　光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下的变化，机理十分复杂。

　　徐云是知道这些概念的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参与这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对于这些问题自然是非常了解的。

　　听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是G线光刻胶，这也是目前应用最广泛的。

　　“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室会议上提过几次，让大家有时间做一些积累，不过目前条件还不成熟。再至于说KrF光刻胶，好像国外也刚刚开始研究吧？”

　　“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。

　　徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内根本就没有使用i线光源的光刻机，国外也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”

　　“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你听说过没有？”

　　“当然听说过。”徐云不忿地说，“不就是集成电路上的晶体管数量，每两年就增加一倍吗？我们好几个老师上课的时候都提过。”

　　“不愧是科大，思维很前卫。”高凡翘个大拇指，赞了一句，却换来了徐云一个白眼。

　　摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才受到人们的重视。随着集成电路技术的迅猛发展，摩尔定律一再得到印证，一时间在西方科技界和产业界倍受推崇。

　　此时的中国，在全球半导体市场上完全是小透明，根本不具备评论半导体产业发展的资格，因此也就没什么人会关注和提及摩尔定律。

　　徐云说他有好几位老师上课时候都提过摩尔定律，高凡自然是要表示钦佩的。只是以他的身份，摆出这样一副嘴脸来夸奖中科大，徐云怎么能不对他表示一番鄙夷。

　　“既然你知道摩尔定律，那么你想想看，芯片制造技术将会以什么样的速度发展？G线光刻机肯定很快就会落伍，下一代i线光刻机会迅速普及。不出十年，市场主流就会是KrF光刻机。”高凡侃侃而谈。

　　徐云在心里默想了一下，点点头道：“你说得有理，不过，这也是国际市场的潮流吧？咱们国内现在连G线光刻机都没能掌握，你说的KrF，怎么也得是20年以后的事情了。”

　　“我们为什么就不能瞄准国际市场呢？”高凡看着徐云，“造光刻机，需要高精密机床，咱们一时造不出来。可是光刻胶的技术没多高的门槛，咱们为什么不能提前一步占领这个市场呢？”

第301章 为什么不可能

　　高凡这话，要是让毕主任听见，只怕要指着他的鼻子大骂他信口开河了。

　　什么，光刻胶没有技术门槛，你说的是贴春联的浆糊吧？

　　光刻技术，被称为人类工业成果的集大成者。光刻机的制造固然要涉及到无数尖端制造工艺，光刻胶的研制与合成，同样需要化学与物理学的完美集成。

　　一种优秀的光刻胶，需要考虑到灵敏度、对比度、抗刻蚀性、分辨能力、曝光宽容度、工艺宽容度、热流动性、膨胀效应、黏度、保证期限等等，研究人员需要从理论上设计出符合条件的化合物，想办法进行合成，并在实践中不断优化配方，最后才有一个很小的概率能够开发出一种有效的光刻胶。

　　有时候，开发出来的光刻胶在某些方面表现出色，而另外一些方面仍存在问题，这时候还需要与集成电路制造商协调，调整光刻工艺以规避光刻胶中存在的缺陷。

　　总之，就是一句话，认为光刻胶没有技术门槛，是彻头彻尾的外行言论。

　　那么，高凡是外行吗？

　　显然不是。

　　他之所以敢说光刻胶没有太高的门槛，是因为他通晓20世纪80年代至21世纪前20年全球光刻胶技术的发展脉络，目前美国、日本、德国、英国的光刻胶厂商正在苦苦探索的技术诀窍，在他脑子里已经有了清晰的答案。

　　给高凡一张EUV光刻机的制造图纸，他没办法把设备造出来。因为制造这台设备，需要使用许多种精密机床，而这些机床甚至连西方国家也还没研制出来。

　　但光刻胶的合成并不需要复杂的设备，有了配方和工艺，他是完全能够把光刻胶制造出来的。

　　高凡穿越前的年代，正值西方国家对中国进行半导体技术的封锁。虽然中国人最终突破封锁，造出了“遥遥领先”，但那种被人讹诈而无法还手的憋屈，高凡是深深体会过的，而且即便是穿越到今天，高凡对此事依然耿耿于怀。

　　高凡不是一个机械专家，不知道该如何加快国产半导体设备的研发进程，但他拥有超前时代40年的化工知识，在光刻胶这个领域里，他是能够有所作为的。

　　徐云皱着眉头，有些跟不上高凡的思路，他问道：“你说什么国际市场？你不会是想让研究所把光刻胶卖到美国去吧？”

　　“为什么不呢？”高凡反问道。

　　“这怎么可能！”徐云脱口而出。

　　“为什么不可能？”高凡继续问道。

　　这需要问为什么吗？

　　徐云看着高凡，满心疑惑。

　　光刻胶是啥东西？这是工业品啊。

　　好吧，中国也能向美国出口一些工业品，但仅限于劳动密集型的产品好不好？而光刻胶，是典型的技术密集型产品，或者说是高科技产品。

　　中国向美国出口高科技产品，这不是明摆着不可能的事情吗，高凡居然还要问为什么。

　　还好，此前徐云也曾与高凡聊过几回，知道高凡是北大的高材生，是很得云中明赏识的。这样一个人，显然不会是无脑之辈，他既然盯着自己问为什么，恐怕就是有一些想法的。

　　“美国的半导体技术水平，比咱们领先了十年以上。美国一家工厂在一个星期内生产的集成电路，比咱们全国一年的产量还要高。

　　“咱们国内现在生产集成电路使用的设备，都是从美国、日本、德国这些国家引进的，而且最少也是他们在五年前的技术。

　　“就以我们现在正在开发的G线光刻胶来说，其实根本不能算是开发，只是在仿造日本东京应化的同类产品。毕主任他们用了一年多的时间，只是基本掌握了对方的配方，但合成工艺还没摸索出来。

　　“在这种情况下，你说我们开发出光刻胶卖到国际市场上去，这不是……好高骛远吗？”

　　说到最后，他其实想说的是“痴人说梦”，话到嘴边，他又觉得有些刻薄了，于是换了一个温和一点的说法。

　　高凡听他一口气说完，呵呵一笑，说道：“你说得对。不过，这不恰恰是我们存在的问题吗？我们总是觉得自己落后，始终跟在别人后面，拿别人的产品来搞逆向开发。

　　“等我们把人家的产品研究透，人家已经开发出新一代产品了，我们依然是落后的。”

　　“这是客观现实啊。”徐云道，“咱们国家基础差，底子薄，又耽误了这么多年，落后不是必然的吗？咱们现在的确已经开始追赶了，但要赶上人家的水平，没有五十年能办到吗？”

　　“打住打住！”高凡摆摆手，“我说老徐，我过去怎么没觉得你这么话痨啊。”

　　“话痨？”

　　“就是得了一种喜欢说话的慢性病，而且很难治。”

　　“……”

　　徐云无语。

　　尼玛，你们北大人就是这样损人的吗？