科技公司，我成国产之光！ 第259节
这什么概念？
这意味着，半导体硅片和光刻胶同时迈向了最前沿。
一米八，接近一米九的壮汉杨烈此时拿着16寸半导体硅片，兴致勃勃地介绍道：
“16寸的半导体硅片相比较于12寸大了4寸，直径达到了40CM，假设切割的芯片裸片尺寸是1.6×1.6CM，那么它一共可以切出475枚芯片裸片，比12寸半导体硅片多了243枚。”
多出243枚什么概念？
陈星曾经可是了解过的，无论是6寸、8寸还是12寸半导体硅片，它们的生产步骤完全相同。
同样的提纯，同样的掺杂，同样的提拉，同样的打磨……
这也就是说，在成本几乎相同的情况下，龙兴硅业生产的16寸半导体硅片能比市面上的12寸半导体硅片多产出243枚。
“还有一点！”
在陈星内心掀起骇浪时，杨烈继续说道：“韩铭还改良了提纯工艺，这批次的半导体硅片纯净度达到了15N！”
“嘶！”
15N？？？
陈星不由得倒吸一口凉气，这已经完全出乎他预料了。
15N的纯度，如果翻译成百分比就是99.9999999999999%，足足15个9，要知道，每个9的出现都代表里面的杂质进一步减少，而目前市面上主流的硅片，它们纯度只能达到11N，也就是11个9。
在沉思过后，陈星看向杨烈道：“16寸半导体硅片向莞城那边供应了吗？”
“还没有。”
杨烈刚说完，又补充道：“刚刚做好就给你微信了，我们只提供了15N的12寸半导体硅片。”
闻言，陈星点了点头，随即叮嘱道：“16寸硅片的事情不能泄露出去，目前还是以12寸硅片生产为主，现在还不是摊牌的时候，知道的人越多，越容易走漏风声。”
“我明白了。”
杨烈点了点头。
在叮嘱完杨烈韩铭，以及龙兴硅业的其他人才后，陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。
化工厂不同于硅业工厂，这里弥漫着刺鼻的味道。
破解光刻胶，以及配套试剂应有的成分，这对于科研工程师来说只能不断尝试。
早早在门口等待的朱明月见陈星到来，立马递上过滤口罩道：“总裁快请进。”
陈星接过口罩戴上，便跟随他走进化工厂。
化工厂真不比硅业工厂，刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿，全是化学试剂的刺鼻味。
在穿过调配区，朱明月带陈星来到了他的办公室，关上房门并打开过滤抽风机。
不一会。
两人都摘下了口罩。
朱明月从办公室保险箱，拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道：
“1号ArF光刻胶，曝光波长：193nm IMM，技术节点及应用：N40nm-7nm PTD L/S，工艺能力CD：0.063um，工艺能力THK：0.16-0.24um。”
“翻译一下。”
虽然陈星是重生者，又带有国产之光系统，但这并不代表他是万能的，光刻胶他可没学过。
朱明月闻言，淡淡一笑解释道：“曝光波长193纳米，说明它支持193深紫外光，也就是DUV光刻机的曝光，技术节点及应用N40纳米-7纳米 PTD L/S，可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”
“工艺能力CD：0.063um是分辨率，而工艺能力THK：0.16-0.24um则是涂抹厚度。”
陈星理解能力很强，在听了讲解以后，立马抓住重点道：“也就是说，这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶？”
“是的。”
朱明月点了点头，继续抛出这款光刻胶的底细道：“因为考虑到我们没有EUV光源，所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”
“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”
第205章 深挖芯片材料，进军东南亚效仿
大米？
“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”
当陈星听见这句话那刻，心中也泛起了波澜。
因为没有13.5极紫外光的EUV光刻机，各个环节都需要配合多重曝光技术去设计。
想弄更先进的光刻胶？
不好意思。
48纳米DUV光刻机不支持！
因为48纳米的DUV光刻胶照射出来的光源是193纳米，如果光刻胶不能适配这个数值，那将无法参与芯片生产。
“辛苦了。”
纵使有千言万语，陈星也只能化作这三个字。
他已经打定主意了，只要光刻工厂宣布建设完成，并投入使用那刻，就是彻底与西方摊牌，半导体领域全面反击的时刻。
“职责所在。”朱明月淡淡一笑，又拿起旁边的罐子道：“刚才的是正胶，这罐是反胶，总裁可以带回去试试效果。”
虽然光刻胶种类多，大致分为六种，不过40纳米以下芯片用的光刻胶一般都是ArF光刻胶，而它又区分正反胶。
何为光刻正反胶？
就比如说ArF光刻胶的正胶，它被紫外光照射后，照射区域的化学性质会变得容易溶解，因此经过曝光的区域会被移除，形成电路图案，未曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
至于ArF光刻胶的反胶，它被紫外光照射则截然相反，未曝光区域的化学性质变得容易溶解，因此未经曝光的区域会被移除，形成图案，经曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
光刻正反胶，它们分别对应了不同的光刻生产工艺，也是硅片曝光的必备。
“对了。”
朱明月在拿出光刻胶后，还不忘提一嘴道：“这款光刻胶阻抗是10的20次方，领先JSR株式会社、TOK东京应化5个次方。
“阻抗越高，就代表光刻胶纯度越高，纯度不足就会造成硅片污染，这款光刻胶总的来说就四个字，遥遥领先。”
“遥遥领先…”
陈星听见后难掩心中激动。
前有16英寸半导体硅片，后有10^20ArF光刻胶，芯片生产原材料方面算是初步闭环了。
为什么说初步闭环，而不是说全面闭环？
那是因为光刻胶主要成分是感光树脂、光敏剂，溶剂，这里面还有材料细分。
就比如说感光树脂，它的成分是甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯，同样依赖半岛进口。
光敏剂同样如此，被东洋合成工业株式会社、富士胶片垄断，均是霓虹岛国企业。
芯片领域越往下深挖就会发现，龙国落后的可不是一星半点。
上到光刻机、EDA软件，下到半导体硅片、光刻胶等配套试剂。
你以为这就完了？
合成光刻胶的化学材料，也被人家所垄断。
这也就是为什么，陈星不急于公开芯片材料技术的原因。
因为还有底层的东西没解决，就不适合太张扬。
目前来说，提供为甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的外国企业还没有断供，因为这些材料不仅仅可以用来制作光刻胶，还能用来医用，甚至也可以运用到石墨和涂料，不能算完全的半导体材料。
这也是为什么，这些企业没有参与联合制裁。
因为现在谁也想不到，龙国企业的工业底子已经可以生产10^20ArF光刻胶，如果让它们知晓肯定会限制。
……
当回过神，平复心情后，陈星也如获至宝般拿起瓶子，询问道：“甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯和光敏剂怎么样？能够近期攻克吗？”
“快了。”
朱明月闪过抹犹豫，没敢明确回复日期。
因为目前的龙兴化工，设备和人手都略显不足。
光刻胶不比半导体硅片，它的设备和技术封锁是最严重的，甚至比光刻机还要严重。
要知道，无论是芯片生产，还是光掩膜版制造，都离不开光刻胶的参与。
它就像是一只笔，光刻机则是握住笔的手，半导体硅片就是纸，没有笔的参与，要光刻机和半导体硅片也没用。
当然了。
半导体硅片和光刻机同样重要。
不过因为龙国是工业强国，半导体硅片领域也有自己产品，6和8英寸还是可以自产的。
但还是那句话，有替代品和没替代品，那是两种概念。
陈星也听出了他的底气不足，淡然一笑道：“缺设备还是缺人？缺人我现在就可以找。”
虽然定向招募只能招募手机细分领域，不包括工业和化工，但可以在普通人才市场砸钱，有钱还怕出不了人才？
“设备。”
朱明月脱口而出。
现在龙兴化工底子太薄了，建设这么久了，还是一条生产线，完全不够用。
不过倒也不是雷布斯和任国非不出力，而是他们也没办法，封锁得太狠了。
甲基丙烯酸酯，丙烯酸酯它不知道采购用途，但光刻胶生产设备这么明显的意图，它能不知道？
“设备的话，我尽可能去弄。”陈星轻微叹息道。
说实话，他也很想注册个制造设备的公司，去攻克半导体设备的国产化。
可短期能实现吗？
不可能的！