火红年代，开局大学演讲 第752节

　　指导算是暂时告一段落。

　　倒不是问题都解决了。

　　只是他记得来的时候，吴有望特地交代他要注意时间。

　　因此尽管觉得有些可惜。

　　他还是道：

　　“李顾问，时间不早了，剩下的问题明天再说吧，我就先回去了。”

　　“没事……”李暮摆了摆手。

　　刚想说你先走。

　　眼角的余光就发现了站在后面的王娅和黄新华。

　　他抬起手上的手表，看看时间，已经是11点。

　　见状，他转而道：

　　“行，明天再说。”

　　说完，李暮便回过头，准备让关建民送一下宋文聪。

　　就在这时。

　　他看到了从书房里出来的黄新华。

　　“黄教授，您什么时候来的？”李暮惊讶道。

　　闻言，黄新华笑道：

　　“来了一会儿了，看你们讨论得正认真，就没打扰。”

　　“其实也不是什么重要的事情。”

　　“我先回去，明天再找你说吧。”

　　他说完后，便打算和宋文聪一块离去。

　　“您人都过来了，肯定不是普通的事。这样，我们简单地说一说就好，怎么样？”李暮道。

　　他一边将人拦住。

　　一边看了看旁边的王娅。

　　见状，王娅道：

　　“我去给你们煮点面条，宋教授，您也吃些东西再走吧。”

　　说完，她便走进厨房。

　　“那好，就说半个小时。”黄新华颔首道。

　　他本来是担心时间太晚，影响李暮和王娅休息。

　　两人既然都没有意见。

　　那么他当然是乐得如此。

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　　旋即，李暮带着黄新华来到书房。

　　坐下后。

　　后者当即道：

　　“我这次过来，主要是告诉你个好消息。化学放大光刻胶的改进工作，已经基本完成。”

　　“通过在树脂体系、光酸生成剂、添加剂和工艺条件等多个方面的改进，”

　　“光刻胶的分辨率、灵敏度、抗刻蚀性和环境友好性得到了极大的提升，满足了更高集成电路制造的需求……”

　　他慢慢地向李暮说出这段时间来的研究成果。

　　当然，不止是光刻胶方面。

　　光源技术、光学系统、掩模技术和机械与控制系统，都得到了相当大的进步。

　　按照黄新华个人的估计。

　　预计在未来的1-2个月内，便能造出集成度突破40w的集成电路。

　　听着提升不大。

　　但要知道。

　　第一块32位微处理器的集成度，也仅仅只有27.5w而已。

　　“太好了！”李暮忍不住发出一声感慨。

　　32位微处理器的实现，对于计算机的发展来说，具有极高的意义。

　　简单来说。

　　它能够支持高达4GB的内存寻址，远超16位处理器的64kb限制，为运行更复杂的操作系统和应用程序提供了基础。

　　黄新华笑道：

　　“我知道你在想什么，不过这才只是实现了集成度的突破，离搞处理器还远着呢。”

　　“更何况咱们现在连16位处理器都还没搞出来。”

　　“你是不知道，我之前去过计算技术研究所一趟，那边一群人熬得头发都掉了一大把。”

　　他虽然专注半导体研究。

　　但不是不清楚微处理器的价值，还有难度。

　　“那不怕，关键是集成度达到要求，很多东西都可以提升了。比如超算。”李暮笑道。

　　32位微处理器重要。

　　但超算同样不遑多让。

　　第二代超算的100亿次每秒运算速度，虽然很不错。

　　但运算速度，从来是不嫌高的。

　　之前不升级，是因为一两百亿的提升没有意义。

　　不过这次的40w集成度，足够将运算速度拉到500亿次每秒往上，绝对十分划算。

　　黄新华道：

　　“你打算做第三代超算，是不是太早了些？”

　　“其实现在第二代超算已经足够应付所有的研究任务了。”

　　“又花几千万去建造，未免有些浪费。不如等我们再研究个1年，将集成度突破100w再说。”

　　他并不怀疑李暮的判断。

　　只是觉得这有些太浪费了。

　　毕竟自从第二代超算出来以后。

　　全国上下所有研究所计算任务算力不足的问题，都得到了解决。

　　“用不了几千万那么多，只升级换代芯片就行，总成本应该不到500w，但它产生的价值，十倍百倍不止。”李暮解释道。

　　他自然不会忘记现在夏国财政困难的问题。

　　不过他相信。

　　一台500亿次超算的价值，绝对对得起500w的造价。

　　黄新华当即点头道：

　　“既然你有信心，那我回去便和所长商量这件事，等集成度一突破，就马上立项研究。”

　　如果是十倍百倍的回报。

　　那么根本不需要考虑。

　　干就完事了。

　　见到黄新华同意，李暮笑了笑，转而又道：

　　“对了，我最近想到一种技术，或许会对突破光刻技术分辨率的无理限制有所帮助。”

　　“哦，是什么技术？”黄新华立刻心痒痒起来。

　　李暮道：

　　“通过多次光刻和刻蚀步骤，将单一光刻层的图案分解为多个子图案，最终组合成高密度、高分辨率图案，您觉得怎么样？”

　　听到他的讲述。

　　黄新华陷入漫长的沉思。

　　很快，想通其中关键的他，立刻眼睛一亮，道：

　　“太行了，利用多次图案化，就能实现比单次光刻更小的特征尺寸。”

　　“不过多次光刻和刻蚀的工艺十分复杂。”

　　“而且繁复的步骤，也容易产生缺陷问题。”

　　方法是个好方法。

　　不过问题也不是没有。

　　李暮道：

　　“这个好说，首先我们可以提高套刻精度，优化显影与刻蚀的工艺……”

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　　书房内。

　　李暮和黄新华越聊越起劲。

　　说好的半个小时。

　　两人聊了2个小时，都还没有停下的意思。